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第983章 光刻机流片成功（第3页）

“嗯，不错。”

林墨的神色淡定。

“行，继续加油，关于28nm流片成功这件事，我这边会通知李市首的。

这些事儿，也是时候，可以去进行宣传了，另外工厂建设这件事......也得好好的去考虑下了......

你们的话全力给我突破，多重曝光技术，尽早实现7nm的芯片流片！”

说着的，林墨就是挂断了电话。

整个人的神色，兴奋不已！

！

28nm的芯片，流片良品率达到98%！

这可以说是，开创了先河的！

大部分的光刻机，28nm的芯片，良品率达到80%、90%，就是非常牛逼了.......

而自己的光刻机，现如今的良品率，居然能达到98%！

这不是开创了先河，是什么？

另外便是......

多重曝光技术。

芯片多重曝光技术。

这个技术，是大部分的光刻机厂商的核心技术。

光刻机在进入第四代之后，最小的工艺结点，就是28nm。

至于第五代光刻机，目前全球是被一一家公司垄断掉了。

至于第六代光刻机.......

这玩意，尚处于传说中。

而第四代的光刻机，在节点达到了28nm之后。

想要进一步缩小，依靠单次曝光，已经是无能为力了......

故此的，产业界开始采用多次曝光，或者是刻蚀来实现缩小制程。

其中，最关键的两种工艺是双重曝光技术，以及自对准双重成像技术。

所谓的双重曝光，采用的技术就是，前后曝光不同图形叠加，来实现更小，更精细的制程。

这种方法的优点是可以实现更高精度，缺点是增加了成本和工艺，且对叠加精度要求较高。

相较之下，自对准双重成像技术则容易得多，同时可以实现精度提高一倍。

但是这种办法，也是有一个非常明显的缺点。

那就是设计工程师，设计出来的版图必须符合一定的规则。

换而言之......